PVD (Physical Vapour Deposition) steht für die physikalische Abscheidung dünner Schichten über die Dampfphase. Dabei entstehen Schichten mit hohen kovalenten Bindungsanteilen der Schichtatome.

Durch die PVD-Beschichtung von Präzisionswerkzeugen und hochwertigen Bauteilen werden Eigenschaften wie die Härte, die thermische sowie die chemische Stabilität deutlich erhöht. Gleichzeitig werden Eigenschaften wie der Reibwert, die Verschweißneigung, die Klebeneigung, die Adhäsionsneigung, die Korrosionsneigung und die Oxidationsneigung deutlich verringert. Seit 1988 finden Sie unsere High-Tech-Schichten in allen Bereichen der Industrie.

PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition) ist eine Weiterentwicklung des CVD-Verfahrens und kombiniert die Vorteile des PVD- und des CVD-Verfahrens. Beim PACVD-Verfahren erfolgt die Schichtabscheidung durch chemische Reaktion aus der Gasphase bei Temperaturen von weniger als 180°C mit einer gezielten Plasma-Unterstützung.